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光觸媒高速研磨分散機(jī),應(yīng)對(duì)納米級(jí)物料的分散,研發(fā)出新型設(shè)備,高剪切研磨分散機(jī),將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,納米級(jí)漿料進(jìn)入研磨分散后,先進(jìn)行研磨將團(tuán)聚體打開,然后再經(jīng)過分散工作組,進(jìn)行分散,避免再次團(tuán)聚。
產(chǎn)品型號(hào):GMD2000
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間:2025-11-17
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光觸媒高速研磨分散機(jī)
光觸媒是一種以納米級(jí)二氧化鈦為代表的具有光催化功能的光半導(dǎo)體材料的總稱。
光觸媒材料主要有納米TiO2、、CdS、WO3、Fe2O3、PbS、SnO2、ZnS、SrTiO3、SiO2等,2000年以來又發(fā)現(xiàn)一些納米貴金屬(鉑、銠、鈀等)具有更好的光催化性能,但由于其中大多數(shù)易發(fā)生化學(xué)或光化學(xué)腐蝕,而貴金屬成本則過高,都不適合作為家居凈化空氣用光催化劑。
在所有的光觸媒材料中,納米TiO2不僅具有很高的光催化活性,且具有耐酸堿腐蝕、耐化學(xué)腐蝕、無毒等優(yōu)點(diǎn),價(jià)格也適中,具有較高的性價(jià)比,因而市場(chǎng)上大多使用納米二氧化鈦?zhàn)鳛橹饕牧稀?nbsp;

對(duì)于納米級(jí)物料的分散,容易出現(xiàn)團(tuán)聚的現(xiàn)象,納米二氧化鈦的分散也不例外。團(tuán)聚是指原生的納米粉體顆粒在制備、分離、處理及存放過程中相互連接、由多個(gè)顆粒形成較大的顆粒團(tuán)簇的現(xiàn)象。由于團(tuán)聚顆粒粒度小,表面原子比例大,比表面積大,表面能大,處于能量不穩(wěn)定狀態(tài),因而細(xì)微的顆粒都趨向于聚集在一起,很容易團(tuán)聚,形成團(tuán)聚狀的二次顆粒,乃至三次顆粒,使粒子粒徑變大,在每個(gè)顆粒內(nèi)部有細(xì)小孔隙。
納米顆粒的團(tuán)聚一般分為兩種:軟團(tuán)聚和硬團(tuán)聚。對(duì)于軟團(tuán)聚機(jī)理,人們的看法比較一致,即,軟團(tuán)聚是由納米粉體表面分子或原子之間的范德華力和靜電引力所致,由于作用力較弱,可以通過一些化學(xué)作用或施加機(jī)械能的方式來消除。
應(yīng)對(duì)納米級(jí)物料的分散,研發(fā)出新型設(shè)備,高剪切研磨分散機(jī),將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,納米級(jí)漿料進(jìn)入研磨分散后,先進(jìn)行研磨將團(tuán)聚體打開,然后再經(jīng)過分散工作組,進(jìn)行分散,避免再次團(tuán)聚。
1、主軸轉(zhuǎn)速:0-14000rpm;
2、特殊結(jié)構(gòu):初級(jí)為磨頭結(jié)構(gòu),第二級(jí)為分散盤結(jié)構(gòu);
3、線速度;0-44m/s;
4、處理量:0-10000L/H;
5、材質(zhì):與物料接觸部分均為316L不銹鋼;

光觸媒高速研磨分散機(jī)設(shè)備選型:
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||
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